Laboratoria
- Laboratorium Oddziaływania Promieniowania Laserowego z Materią – rozbudowane w ramach projektu OPTOLAB
- Laboratorium oddziaływania impulsów laserowych wielkiej mocy z materią
- Laboratorium oddziaływania impulsów laserowych dużej energii z materią
- Laboratorium mikro- i nanoobróbki promieniowaniem EUV
- Laboratorium nanoobrazowania promieniowaniem EUV/SXR
- Laboratorium mikroskopii elektronowej
Aparatura
Zespół dysponuje między innymi następującą aparaturą badawczą:
- Skaningowy mikroskop elektronowy Vega//SBU, firmy Tescan;
- Systemu skaningowego mikroskopu elektronowego Quanta 3D FEG, firmy FEI Company;
- System femtosekundowego lasera tytano-szafirowego firmy Amplitude Technologies;
- System nanosekundowego lasera Nd:YAG NL129 firmy Expla;
- Laserowo-plazmowe źródło skrajnego nadfioletu (EUV) do modyfikacji powierzchni;
- Spektrometr EUV – McPherson, model 251;
- 4 próżniowe stanowiska badawcze;